HiPace 800 P渦輪分子真空泵

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關鍵詞：渦輪分子真空泵

摘要

HiPace 800 P 渦輪分子真空泵，氮氣抽速達 800 L/s，極限壓力低至 10?1? mbar，輕松實現(xiàn)超高真空環(huán)境。機身緊湊省空間，低功耗降運維成本，抗干擾設計保障連續(xù)穩(wěn)定運行。適配半導體制造、真空鍍膜、科研實驗等場景，能精準滿足嚴苛真空需求，是工業(yè)與科研領域的高效可靠之選！?

產(chǎn)品介紹

HiPace 800 P渦輪分子真空泵

渦輪分子真空泵

技術(shù)規(guī)格ISO

渦輪分子真空泵

抽速

HiPace 800 P 渦輪分子真空泵，是專為高要求超高真空場景打造的高效設備，憑借卓越性能成為工業(yè)與科研領域的優(yōu)選。其核心性能亮眼，氮氣抽速可達 800 L/s，遠超同級別多數(shù)產(chǎn)品，能快速建立真空環(huán)境；極限壓力低至 10?¹? mbar，精準滿足半導體制造、真空鍍膜、精密科研等對真空度要求嚴苛的場景，保障工藝穩(wěn)定性與實驗準確性。

在使用體驗上，這款真空泵優(yōu)勢顯著。機身采用緊湊設計，體積小巧不占過多安裝空間，適配各類車間與實驗室布局；低功耗運行模式，相比傳統(tǒng)設備能耗降低約 15%，長期使用能大幅減少運維成本。同時，它搭載抗干擾防護系統(tǒng)，可有效抵御電壓波動與環(huán)境雜質(zhì)影響，連續(xù)運行故障率低于 0.5%，為生產(chǎn)與實驗的不間斷推進提供可靠保障。

從適配場景來看，HiPace 800 P 覆蓋范圍廣泛。在半導體行業(yè)，能滿足晶圓刻蝕、薄膜沉積等工序的超高真空需求；在科研領域，適配粒子物理實驗、材料表面分析等精密研究；在工業(yè)制造中，也可用于高端光學元件鍍膜、航空航天部件真空檢測等環(huán)節(jié)。此外，產(chǎn)品通過 CE、ISO 雙重認證，配備專業(yè)售后團隊，提供 1 年質(zhì)保與 7×24 小時技術(shù)支持，讓客戶采購與使用更安心，是兼顧性能、效率與保障的優(yōu)質(zhì)真空解決方案。

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